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清华成功研发光刻机双工件台掩模台系统α样机
醉卧青云 2016-05-11
导语

据悉,该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个通过正式验收的项目。项目完成使得我国成为世界少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一,将极大推动我国高端光刻机的研制与产品化。

图:验收会现场。记者张宇摄

4月28日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(简称02专项)实施管理办公室在清华大学组织召开“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会。专家组对项目任务完成情况予以高度评价,并一致同意该项目通过验收。清华大学副校长薛其坤院士出席。

项目概述

光刻机是制造大规模集成电路的核心装备。为将设计图形制作到硅片上,并在2~3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管,光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台,在高速运动下需达到2nm(相当于头发丝直径的三万分之一)的运动精度。由此奠定了光刻机超精密工件台技术在超精密机械制造与控制领域的最尖端地位,被称为超精密技术皇冠上的明珠。

据悉,该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个通过正式验收的项目。项目完成使得我国成为世界少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一,将极大推动我国高端光刻机的研制与产品化,是清华大学面向国家战略需求、解决重大科技问题、践行重大科研责任的一次标志性成 果。

项目团队情况

项目由清华大学机械工程系朱煜教授担任负责人,以研制光刻机双工件台系统样机为目标,力争为研发65-28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的产品级技术。项目联合了华中科技大学、上海微电子装备有限公司和成都工具所等3家单位,下设10个课题。清华大学机械工程系、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题,机械工程系IC装备团队承担了样机集成研发等核心科研任务。

光刻机双工件台样机

验收会上,专家组认真听取了项目完成情况汇报,以及项目样机测试验证报告和专家组的现场测试报告,审阅了验收材料和财务资料。经过充分讨论、质询和评议,专家组对项目完成情况给予了92分的高分,一致同意项目通过任务验收和财务验收。

验收专家组由相关领域21名技术专家和财务专家组成。专家组认为,研究团队历经5年完成了全部研究内容,突破了平面电机、微动台、超精密测量、超精密运 动控制、系统动力学分析、先进工程材料制备及应用等若干关键技术,攻克了光刻机工件台系统设计和集成技术,通过多轮样机的迭代研发,最终研制出2套光刻机 双工件台掩模台系统α样机,达到了预定的全部技术指标,关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台的技术水平。围绕双工件台技术完成专利申请231项(其 中国际发明专利41项),已获得授权122项;培养了一支近200人的研发团队,建立了高水平研发平台,为后续产品研发和产业化打下了坚实的基础。

 

图:部分验收专家在现场考察。段宏宇摄

(本文资料来源:清华主页,e科编辑整理)

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作者 醉卧青云

博士生

哈尔滨工业大学

活跃作者
  • 爱因斯坦 科研工作者 北京航空航天大学 博士
  • 梅西 本科生 北京工业大学 本科
  • 金陵 本科生 北京大学 本科

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